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1200℃開啟式管式爐 高溫真空爐，以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

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1200℃小型開啟式真空管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

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1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

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1400℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文操作界面更便捷；高真空級法蘭密封；長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度。

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1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現迅速降溫；內置五個加熱溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。

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1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐，采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現迅速降溫；真空級法蘭密封；內置三個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。